1.ALD原子层沉积系统

ALD(原子层沉积)是化学气相沉积的一种，其可以制备半导体薄膜、导体薄膜等薄膜材料，具有厚度可控、制膜均匀和工作温度较低等优点。

2.PLD-450a型

脉冲激光溅射沉积系统

系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

3.磁控溅射系统

磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。

4.布鲁克Multimode 8原子力显微镜

主要模式包括AFM、PFM、C-AFM、STM、EFM等。

通过对样品表面施加小于矫顽场的一个交流的电压，从而得到压电信号输出样品的表面形貌、畴、表面电荷等图片。

5.Radiant铁电测试仪 

测试薄膜及陶瓷的铁电性能（P-E曲线）。

6.电学光伏测量系统

测量不同光照强度下薄膜的光电信号。

7.精密光学显微镜

最大光学放大倍数达1000倍。

8.Agilent4294A

测试陶瓷的介电性能，包括阻抗、电容等参数。

9.PEM-1020 型电磁铁系统

可用于磁参数测量，也可用于为铁氧体等磁性产品充磁。

10.CNA-11系列氦压缩机系统

可制造出4K的低温，用于研究半导体、铁电体的低温性质。

11.流延机

用于浆料流延制备薄至几微米的生片。

12.差热分析仪

(DTA, Netzsch STA449C Jupiter)

可以快速而深入地对材料的热稳定性，分解行为，组分分析，相转变，熔融过程等进行表征。易于使用的顶部装样式系统，称重系统解析度高，长时间稳定性高。

13.sol-gel制备薄膜系统

Sol-Gel溶胶-凝胶法是制备材料的湿化学方法中的一种崭新方法。它是一种由金属有机化合物，金属无机化合物或者二者混合物经过水解缩聚过程，逐渐凝胶化及进行相应的后处理，从而获得氧化物或其他化合物的工艺。